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| 姓名： |
王家敏 |
| 职称： |
高级工程师 |
| 博导/硕导： |
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| 所属二级机构： |
高性能金属材料研究所
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| 通讯地址： |
上海市闵行区东川路800号 |
| 邮编： |
200240 |
| E-mail： |
jmwang@sjtu.edu.cn |
| 联系电话： |
86-21-54749286 |
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| 从事专业： |
材料科学 |
| 学习与工作简历： |
1987年9月永利集团， 1988年9月永利集团材料科学与工程系, 1996年5月德国Fraunhofer Nondestructive Institute, 1997年11月永利集团 |
| 研究方向一 |
薄膜材料 |
| 研究方向二 |
失效分析 |
| 研究情况 |
从事溅射靶材与薄膜两者性能关系的研究，薄膜的成膜工艺，组织结构和性能分析表征，新薄膜材料的研发，材料的失效分析。参加多项国家自然科学基金，上海市自然科学基金及重点项目的研究工作，包括高阻溅射靶材的制备 上海市重点产品开发生产技术难题攻关项目，新型溅射用靶材与薄膜性能之间关系的研究 上海市自然科学基金重点项目，新型金属间化合物Ti5Si3的探索及其金属学问题，59471002，国家自然科学基金，溅射薄膜性能和溅射靶材之间非线性关系的研究 59671005 国家自然科学基金，激光调制磁弥散场对铁磁材料特性分析的研究, 德国Fraunhofer无损检测研究所，Barkhausen噪音和涡流显微术对磁性材料特性分析的研究, 德国Fraunhofer无损检测研究所等。 |
| 讲授主要课程 |
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| 教学研究 |
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| 代表性论文、论著 |
Target material with large scale and high Si contents for electronics , Journal of Materials Science Letter，Ceramic Automotive Valves-Chances and Limitations of Nondestructive Testing, The International Conference on Nondestructive Testing，Observation of magnetic structures under external field by the photothermally modulated stray field technique, Proc. 10th IPPP, Pome, Italy，半导体集成电路制造技术（第七章，第八章），高等教育出版社，CuNiSi溅射薄膜热性能与溅射靶材中稀土元素加入量之间关系的研究，功能材料 |
| 毕业博士生数 |
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| 毕业硕士生数 |
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| 参加学术团体、任何职务 |
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| 申请专利 |
发明专利号：ZL 99 1 13963.1，99113965.8，99113964.X，200610024078.2 |
| 荣誉和奖励 |
上海市科技进步奖三等奖，上海是发明专利二等奖 |
| 其他 |
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